Inhalt des TP G2 ist es, die Selbstorganisation beladener Kolloide und Mizellen zu nutzen, um zunächst geordnete Muster der kolloidalen oder mizellaren Träger zu erhalten, die sich dann durch Plasma­prozesse in entsprechend geordneten Nanoteilchen (NT) umwandeln lassen. Dabei können Größe und Abstand der resultierenden NT über einen weiten Bereich der Nanoskala kontrolliert variiert werden. Nutzt man die NT als Maske bei nachfolgenden Ätzprozessen, so lassen sich die ursprünglichen Muster in das jeweilige Substrat übertragen und man erhält z.B. Anordnungen von Nano-Säulen oder –Poren mit Durchmessern im Bereich 10 nm.

Ein Schwerpunkt in der beantragten Förderperiode liegt auf der weiteren Optimierung der Mini­emulsionstechnik zur Beladung von Kolloiden mit komplexeren metallischen Legierungen und halbleitenden Verbindungen sowie zur Herstellung beladener Kern-Schale-Teilchen. Die hierzu notwendigen Arbeitsschritte stellen den chemisch-orientierten Teil des Projektes dar.

Ein zweiter, physikalisch-orientierter Schwerpunkt besteht darin, durch Kombination mit Standardlithographietechniken eine flexible Strukturierungsmethode auf der Nanoskala zu entwickeln, um so neue Funktionen zu erhalten. Die resultierenden Nanostrukturen sowie die Infrastruktur des von G2 betriebenen Reinraums werden allen interessierten Teilprojekten des SFB 569 zur Verfügung gestellt.